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PVD是英文Physical Vapor Deposition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。PVD纳米涂层通常称谓:镀钛,真空镀钛,镀铬,镀钛加工,PVD镀钛,纳米镀钛,纳米涂层,真空镀钛加工,真空涂层,表面处理等。
真空镀钛涂层特点:增寿、增硬、增值,并以其硬高度、高*、强抗腐蚀性、抗高温、抗黏着性等优越的使用性能广泛应用于模具工业中。 多元复合涂层种类:氮化钛(TiN)氮化铬(CrN)氮化钨(Wu-N)碳化钨(Wu-C)氮化锆(ZrN)碳氮化钛(TIcN)碳氮化铬(CrCN)氮化钛铝(TiAlN)氮化铝钛(AlTiN)氮化钛铬(TiCrN)氮化钛硅(TiSiN)氮化锆硅(ZrSiN)氮化铬铝(CrAlN)氮化铬硅(CrSiN)氮化钛铝铬(TiAlCrN)氮化钛铝硅(TiAlSiN)氮化钛铝铬硅(TiAlCrSiN)类金刚石(DLC)炭化铬钨(CrN-Wc)等各种超硬膜层,其涂层厚度可达到0.5~5um,故而您不用担心会给尺寸带来麻烦,并以*新工艺使产品具有良好的润... [详细介绍] |